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Resistencia a oídio (Erysiphe polygoni) y rendimiento en arveja afila (Pisum sativum L.)

Checa, Oscar Y Rodriguez, Marino (2015) Resistencia a oídio (Erysiphe polygoni) y rendimiento en arveja afila (Pisum sativum L.). Temas Agrarios, 20 (2). pp. 58-71. ISSN 0122-7610

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URL Oficial: https://doi.org/10.21897/rta.v20i2.759

Resumen

En los últimos cinco años en el departamento de Nariño se observa incremento de la severidad del ataque de oídio (Erysiphe polygoni) en arveja que produce pérdidas en rendimiento entre un 20 y un 40%. Las variedades mejoradas presentan susceptibilidad al patógeno. La investigación se realizó en la granja Lope del SENA, Pasto, Colombia. En la primera fase, se evaluaron 90 materiales de arveja (Pisum sativum) con el gen afila por rendimiento y reacción al oídio (Erysiphe polygoni) bajo condiciones de inoculo natural. Las líneas evaluadas se obtuvieron por cruzamientos simples y retrocruzamientos entre los parentales Andina, San Isidro y Sindamanoy y los genotipos donantes del gen afia: Dove, ILS3568 e ILS3575. Se utilizó un diseño de bloques al azar aumentado. Se encontró que 10% de los materiales fueron resistentes a oidio, 20% moderadamente resistentes, 60% moderadamente susceptibles y 10% susceptibles. De estos materiales se seleccionaron 19 genotipos resistentes, y moderadamente resistentes y de mayor rendimiento, los cuales fueron evaluados en la segunda fase por rendimiento y sus componentes. Para rendimiento en vaina verde y en grano seco el 84% y el 68,4% de las líneas evaluadas tuvieron promedios similares a los testigos comerciales Andina y Sindamanoy. Las líneas seleccionadas con el gen afila recuperaron en un 88,42% las características de rendimiento y sus componentes de los progenitores Andina, San Isidro y Sindamanoy

Tipo de Elemento: Artículo
Asunto: S Agricultura > S Agriculture (General)
Division: Facultad de Ciencias Agrícolas > Programa de Ingeniería Agronómica > Productividad
Depósito de Usuario: Ph.D Oscar Checa
Fecha Deposito: 30 Abr 2018 14:19
Ultima Modificación: 30 Abr 2018 14:19
URI: http://sired.udenar.edu.co/id/eprint/3530

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